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SK 海力士正研發高帶寬存儲:16 層 DRAM 和 NAND 芯片層層堆疊,為手機 AI 性能加 buff

2025/11/10 20:23:47 來源:IT之家 作者:清源 責編:清源

IT之家 11 月 10 日消息,據韓國“電子新聞”今日報道,高帶寬內存(HBM)的發展,正在推動存儲大廠 SK 海力士攻克新的性能瓶頸 —— 研發高帶寬存儲(HBS)。這項新技術有望讓未來的智能手機和平板電腦具備更強大的 AI 算力

SK 海力士計劃采用一種名(ming)為(wei)垂(chui)直導線扇出(VFO)的封裝工藝,將最多 16 層(ceng) DRAM 與(yu) NAND 芯片垂(chui)直堆(dui)疊,從而顯著提升數據處理速度。

IT之家從報道中獲悉,VFO 封裝是 HBS 能否成功的關鍵。SK 海力士早在 2023 年就首次(ci)展示(shi)這項技術,之后隨(sui)著生(sheng)成式 AI 普及,HBS 正(zheng)逐漸進入智能手機和平板電腦。

直線連接堆疊的 DRAM 和 NAND 芯片,VFO 取代了傳統的彎曲導線連接方式,既縮短了布線距離,又減少信號損耗與延遲,并能支持更多 I/O 通道,使整體數據處理性能大幅提升

未(wei)來(lai) HBS 將與手(shou)機芯片組一起(qi)封裝,再安(an)裝到設備主板上(shang)。外(wai)界普遍認為,驍龍 8 至尊版 Gen 6 Pro 具(ju)備同時兼容(rong) LPDDR6 與 UFS 5.0 的能力(li),因此被視為 HBS 的潛在(zai)首發平臺。

與 HBM 相比,HBS 無需采用硅通孔(TSV)工藝,意(yi)味著芯片制(zhi)造不必穿孔,成(cheng)本更(geng)低、良率更(geng)高(gao)。對于希望在(zai)設備中(zhong)采用這種(zhong)新型(xing)存(cun)儲(chu)方案(an)的(de)廠(chang)商而言(yan),這無(wu)疑(yi)是一大利好。

據悉,蘋果正計劃在未來的設備中使用 HBM 和 TSV,讓 能夠在本地運行更復雜的 AI 模型,因此蘋果開始研究 HBS 也在情理(li)之中。

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關鍵詞:SK海力士

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